潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)(dui)溫度(du)的(de)(de)要求(qiu)以(yi)后還要列(lie)舉，但作(zuo)為(wei)總(zong)的(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加工精(jing)度(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在大規模集成電(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝光工藝中，作(zuo)為(wei)掩膜板材(cai)料的(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅片(pian)，溫度(du)上升(sheng)1度(du)，就引起(qi)了(le)0.24um線(xian)性膨脹(zhang)，所(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)的(de)(de)恒溫，同時(shi)要求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)值一(yi)般較(jiao)低(di)，因為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產(chan)品將有污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)半導體(ti)車間，這種車間溫度(du)不宜(yi)超過(guo)25度(du)，濕(shi)(shi)度(du)過(guo)高產(chan)生(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁(bi)上會結露(lu)，如果(guo)發生(sheng)在精(jing)密裝置(zhi)或電(dian)路中，就會引起(qi)各種事(shi)故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)在50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)太(tai)高時(shi)將通過(guo)空(kong)氣中的(de)(de)水分(fen)子(zi)把硅片(pian)表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)灰塵化(hua)學吸附在表(biao)面(mian)難以(yi)清除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)越(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)越(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)低(di)于(yu)(yu)30%時(shi)，又(you)由于(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)(de)作(zuo)用使(shi)粒(li)子(zi)也容(rong)易吸附于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量(liang)半導體(ti)器件(jian)容(rong)易發生(sheng)擊穿(chuan)。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。