潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后(hou)還(huan)要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為總(zong)的(de)(de)原則看，由于(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如在(zai)大(da)規模集成電路生(sheng)產的(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)藝中(zhong)(zhong)，作(zuo)為掩(yan)膜板材料的(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)(gui)片(pian)的(de)(de)熱(re)膨脹系(xi)數的(de)(de)差(cha)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)硅(gui)(gui)片(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫，同時(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為人出汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品(pin)將有污(wu)染(ran)，特別是怕鈉的(de)(de)半導(dao)體(ti)車間(jian)，這種車間(jian)溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過高(gao)產生(sheng)的(de)(de)問(wen)題更多(duo)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)，冷卻水管(guan)壁上會(hui)結露，如果發生(sheng)在(zai)精密裝(zhuang)置(zhi)或電路中(zhong)(zhong)，就(jiu)會(hui)引起各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)(shi)將通過空氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)水分子把硅(gui)(gui)片(pian)表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難(nan)以(yi)清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)靜電力的(de)(de)作(zuo)用使粒(li)子也容易吸附(fu)于(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體(ti)器件容易發生(sheng)擊(ji)穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)(gui)片(pian)生(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍為35—45%。