潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后還要(yao)(yao)(yao)列(lie)舉(ju)，但作(zuo)為(wei)總(zong)的(de)(de)(de)(de)原則(ze)看，由于(yu)(yu)加工(gong)(gong)精度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精細(xi)，所以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波(bo)動(dong)范(fan)圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。例如在大(da)規模集成電路(lu)(lu)生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)(gong)藝中，作(zuo)為(wei)掩膜板(ban)材(cai)料的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系(xi)數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)必(bi)須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車(che)間，這種車(che)間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更(geng)多。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)超過55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會結露，如果發生(sheng)(sheng)在精密(mi)裝置或(huo)電路(lu)(lu)中，就(jiu)會引起各種事故。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)易(yi)(yi)生(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通(tong)過空氣中的(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅片表面(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在表面(mian)難以(yi)清除。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易(yi)(yi)吸附于(yu)(yu)表面(mian)，同時(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體器件(jian)容易(yi)(yi)發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片生(sheng)(sheng)產(chan)濕度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。