潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求以(yi)后還(huan)要(yao)列舉(ju)，但作(zuo)為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)原則(ze)看(kan)，由(you)于(yu)(yu)加工(gong)(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細(xi)，所以(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集(ji)成電路(lu)生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)刻曝光(guang)(guang)工(gong)(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)熱膨脹系數(shu)的(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)(wei)人出汗(han)以(yi)后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)半導體車間，這種車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)問題更多(duo)。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上會(hui)結(jie)露，如(ru)果發生(sheng)在(zai)精密裝(zhuang)置或(huo)電路(lu)中(zhong)，就會(hui)引起各種事故。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易(yi)生(sheng)銹(xiu)。此(ci)外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)將通過空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)水分子(zi)把硅(gui)片(pian)表面粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸(xi)附(fu)(fu)在(zai)表面難(nan)以(yi)清除。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒子(zi)也容易(yi)吸(xi)附(fu)(fu)于(yu)(yu)表面，同時(shi)(shi)大(da)量半導體器件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。