潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工(gong)(gong)藝(yi)對溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求以后還(huan)要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)原則(ze)看，由于加(jia)工(gong)(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細，所以對溫度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍(wei)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)大規模集成電(dian)路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工(gong)(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以必須(xu)有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒(heng)溫，同時(shi)要(yao)求濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為人出汗以后，對產品將(jiang)有污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)(ban)導(dao)體車間，這種車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過高(gao)產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上會(hui)結露，如果發生(sheng)在(zai)精(jing)密裝置或(huo)電(dian)路中(zhong)，就(jiu)會(hui)引起各種事故。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)將(jiang)通過空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅片表(biao)(biao)面粘著的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表(biao)(biao)面難以清除。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉(diao)，但(dan)當(dang)相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于30%時(shi)，又由于靜(jing)電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒(li)子也容易吸附于表(biao)(biao)面，同時(shi)大量半(ban)(ban)導(dao)體器(qi)件容易發生(sheng)擊(ji)穿。對于硅片生(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍(wei)為35—45%。