潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)列舉，但作(zuo)為總(zong)的(de)原則看，由(you)于(yu)加工精(jing)度(du)(du)(du)越來越精(jing)細，所以(yi)(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)波(bo)動范(fan)圍(wei)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)越來越小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)的(de)光刻(ke)曝光工藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜(mo)板材料(liao)的(de)玻璃與硅片(pian)(pian)的(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)越來越小。直徑100 um的(de)硅片(pian)(pian)，溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)(du)的(de)恒溫(wen)(wen)(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為人(ren)出(chu)汗以(yi)(yi)后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有污(wu)染(ran)，特(te)別是怕鈉的(de)半(ban)導(dao)體車間(jian)(jian)，這種(zhong)(zhong)車間(jian)(jian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜(yi)超過25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過高(gao)(gao)產(chan)生(sheng)的(de)問題更多。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管(guan)壁上(shang)會結露(lu)，如(ru)果(guo)發生(sheng)在(zai)精(jing)密裝置(zhi)或電(dian)路(lu)中(zhong)，就會引起(qi)各種(zhong)(zhong)事(shi)故(gu)。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高(gao)(gao)時(shi)(shi)將通過空(kong)氣中(zhong)的(de)水(shui)分(fen)子(zi)把硅片(pian)(pian)表(biao)面(mian)粘(zhan)著的(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難(nan)以(yi)(yi)清除。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越高(gao)(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)越難(nan)去掉，但當相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容易(yi)吸附(fu)于(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)大(da)量半(ban)導(dao)體器件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)硅片(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。