潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工藝(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求以后(hou)還要(yao)列舉(ju)，但作為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加(jia)工精(jing)(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)(jing)細(xi)，所(suo)(suo)以對溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)大(da)規(gui)模(mo)集成(cheng)電(dian)路(lu)生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光刻(ke)曝光工藝(yi)中，作為(wei)(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系(xi)數(shu)的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了(le)0.24um線性(xing)膨脹，所(suo)(suo)以必須有(you)(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)要(yao)求濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)值(zhi)一(yi)般較低，因為(wei)(wei)人出汗以后(hou)，對產品將有(you)(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁上(shang)會結露，如(ru)果發生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)(jing)密裝置或(huo)電(dian)路(lu)中，就會引起(qi)各種(zhong)事故。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)(sheng)銹。此(ci)外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)將通過(guo)(guo)空氣中的(de)(de)(de)(de)水分子把(ba)硅片(pian)表面(mian)(mian)粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表面(mian)(mian)難以清除。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但當(dang)相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作用使(shi)粒(li)子也容(rong)易(yi)吸附(fu)于(yu)表面(mian)(mian)，同時(shi)大(da)量半導(dao)體器件容(rong)易(yi)發生(sheng)(sheng)擊穿。對于(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。