潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工(gong)藝(yi)對(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)要求以后還要列舉，但作為(wei)總的(de)(de)原則看，由于(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)精細(xi)，所以對(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)要求越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)(zai)大規模集成電(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)藝(yi)中，作為(wei)掩膜板材(cai)料的(de)(de)玻璃與(yu)硅片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要求越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)硅片(pian)(pian)(pian)，溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨脹，所以必(bi)須有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)，同(tong)時(shi)要求濕(shi)度(du)(du)(du)值一(yi)般較低(di)，因為(wei)人出汗以后，對(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)半導體車間(jian)，這種車間(jian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上會(hui)結露，如果發生(sheng)在(zai)(zai)精密裝(zhuang)置或電(dian)路中，就會(hui)引起(qi)各種事(shi)故。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)將通過(guo)空(kong)氣(qi)中的(de)(de)水(shui)分子把硅片(pian)(pian)(pian)表(biao)面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)灰塵化(hua)學吸(xi)附(fu)(fu)在(zai)(zai)表(biao)面(mian)難以清除。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)(de)作用使(shi)粒子也容易吸(xi)附(fu)(fu)于(yu)表(biao)面(mian)，同(tong)時(shi)大量(liang)半導體器件容易發生(sheng)擊穿(chuan)。對(dui)于(yu)硅片(pian)(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。