潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)后(hou)還要列舉，但作為(wei)總(zong)的(de)(de)(de)(de)原(yuan)則看，由于(yu)(yu)(yu)加工(gong)(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)(xiao)。例如在(zai)大(da)規模(mo)集成電(dian)路(lu)生(sheng)(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工(gong)(gong)藝中(zhong)，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)必(bi)須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)值(zhi)一(yi)般較低，因(yin)為(wei)人出(chu)汗(han)以(yi)后(hou)，對(dui)產品將(jiang)有(you)污(wu)染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這(zhe)種車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管(guan)壁上會結露，如果發生(sheng)(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)密(mi)裝置或電(dian)路(lu)中(zhong)，就會引(yin)起各種事故。相對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)(sheng)銹。此外(wai)，濕度(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)(shi)將(jiang)通過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水(shui)分(fen)子把硅(gui)片表(biao)面(mian)粘著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表(biao)面(mian)難(nan)以(yi)清除。相對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉(diao)，但當(dang)相對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又(you)由于(yu)(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容易吸附于(yu)(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體器件容易發生(sheng)(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)(yu)(yu)硅(gui)片生(sheng)(sheng)(sheng)產濕度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。