潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)(ti)工(gong)藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)列舉，但作(zuo)為總的(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如(ru)在大(da)規模集成(cheng)電路(lu)生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝(yi)中，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升(sheng)1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時要(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為人出汗以(yi)后，對產(chan)品將(jiang)有污(wu)染，特別(bie)是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)半導體(ti)(ti)車間，這(zhe)種(zhong)車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)超過55%時，冷卻水(shui)管壁上會結露，如(ru)果發生(sheng)(sheng)在精(jing)密裝置或電路(lu)中，就會引(yin)起各種(zhong)事(shi)故。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)在50%時易(yi)生(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)(du)(du)太(tai)高時將(jiang)通過空氣中的(de)(de)(de)水(shui)分子(zi)(zi)把硅片(pian)表(biao)面粘著的(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在表(biao)面難以(yi)清(qing)除。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時，又由于(yu)(yu)靜電力(li)的(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒子(zi)(zi)也容易(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)表(biao)面，同時大(da)量(liang)半導體(ti)(ti)器件容易(yi)發生(sheng)(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)濕度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍為35—45%。