潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)(yao)(yao)(yao)列(lie)舉，但作(zuo)(zuo)為(wei)總的(de)(de)原(yuan)則看(kan)，由于加(jia)工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細(xi)，所以(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動(dong)范圍的(de)(de)要(yao)(yao)(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)在大規模集成電路(lu)(lu)生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)光(guang)刻曝(pu)光(guang)工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)(zuo)為(wei)掩膜板(ban)材料(liao)的(de)(de)玻璃與(yu)硅(gui)(gui)片的(de)(de)熱膨(peng)(peng)脹(zhang)系數(shu)的(de)(de)差要(yao)(yao)(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)(de)硅(gui)(gui)片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨(peng)(peng)脹(zhang)，所以(yi)必(bi)須有(you)(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫(wen)，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因(yin)為(wei)人出(chu)汗以(yi)后，對產(chan)品將有(you)(you)污染，特(te)別是怕鈉的(de)(de)半導體車間，這種(zhong)車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)(shi)，冷(leng)卻水管壁上(shang)會結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)(sheng)在精(jing)密裝置或電路(lu)(lu)中(zhong)，就會引(yin)起各種(zhong)事故。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)(shi)將通過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)水分(fen)子(zi)把硅(gui)(gui)片表面粘著的(de)(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在表面難以(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)(shi)(shi)，又由于靜(jing)電力的(de)(de)作(zuo)(zuo)用使粒子(zi)也容易吸(xi)附(fu)于表面，同時(shi)(shi)(shi)大量(liang)半導體器件容易發(fa)生(sheng)(sheng)擊穿。對于硅(gui)(gui)片生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。