潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)(ti)工藝對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于加工精(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)(yi)對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集成電路(lu)生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工藝中，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)(gui)片的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)(gui)片，溫度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引起了0.24um線(xian)性(xing)膨(peng)脹，所以(yi)(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕度(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出(chu)汗以(yi)(yi)后，對(dui)(dui)(dui)產品將有污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)(ti)車間，這種(zhong)(zhong)車間溫度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕度(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多(duo)。相對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)超過(guo)55%時(shi)(shi)(shi)，冷(leng)卻(que)水(shui)管壁上(shang)會結(jie)露(lu)，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)密(mi)裝置(zhi)或電路(lu)中，就會引起各種(zhong)(zhong)事故。相對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)太高時(shi)(shi)(shi)將通(tong)過(guo)空(kong)氣(qi)中的(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅(gui)(gui)片表面粘著的(de)(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸(xi)附(fu)在(zai)表面難(nan)以(yi)(yi)清除。相對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但(dan)當相對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)低于30%時(shi)(shi)(shi)，又由于靜電力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒(li)子也容易吸(xi)附(fu)于表面，同時(shi)(shi)(shi)大量(liang)半(ban)導體(ti)(ti)器件容易發生(sheng)(sheng)擊穿(chuan)。對(dui)(dui)(dui)于硅(gui)(gui)片生(sheng)(sheng)產濕度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。