潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工(gong)藝對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)的(de)(de)要求(qiu)以(yi)后還要列舉，但作(zuo)(zuo)為總的(de)(de)原則看，由(you)于(yu)(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)波動(dong)范(fan)圍的(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例如(ru)在(zai)大規模集成(cheng)電(dian)路(lu)生(sheng)產的(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)片的(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)(wen)度(du)(du)上升(sheng)1度(du)(du)，就(jiu)引(yin)起了0.24um線(xian)性膨(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時要求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)值一般(ban)較低，因為人出汗(han)以(yi)后，對(dui)產品將有污(wu)染，特別是怕鈉的(de)(de)半導體車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)不宜(yi)超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過(guo)高(gao)產生(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時，冷卻水管壁上會結露，如(ru)果發生(sheng)在(zai)精(jing)密裝置或電(dian)路(lu)中(zhong)，就(jiu)會引(yin)起各種(zhong)事故。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)在(zai)50%時易(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)太高(gao)時將通過(guo)空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)水分(fen)子把硅(gui)片表面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)灰塵化(hua)學吸附(fu)在(zai)表面(mian)難(nan)以(yi)清除(chu)。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)(yu)30%時，又由(you)于(yu)(yu)靜電(dian)力(li)的(de)(de)作(zuo)(zuo)用(yong)使粒子也容易(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)表面(mian)，同時大量半導體器(qi)件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)(yu)硅(gui)片生(sheng)產濕(shi)(shi)度(du)(du)范(fan)圍為35—45%。