潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)的(de)要(yao)求以(yi)后(hou)還要(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)原則看，由于(yu)(yu)加工(gong)精度(du)(du)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)精細(xi)，所以(yi)對溫(wen)度(du)(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)要(yao)求越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小(xiao)。例如在大(da)規模集成電路生(sheng)產(chan)(chan)的(de)光刻曝光工(gong)藝(yi)中(zhong)(zhong)，作為(wei)掩膜板材料的(de)玻(bo)璃與(yu)硅片的(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)差(cha)要(yao)求越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)的(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)(du)值一(yi)般(ban)較低，因為(wei)人出汗以(yi)后(hou)，對產(chan)(chan)品將有污染，特別是怕鈉(na)的(de)半導體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產(chan)(chan)生(sheng)的(de)問(wen)題更(geng)多。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻(que)水管壁上會(hui)結露，如果(guo)發生(sheng)在精密裝置或電路中(zhong)(zhong)，就會(hui)引(yin)起各種事(shi)故(gu)。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)在50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此(ci)外，濕(shi)(shi)度(du)(du)太高(gao)時(shi)將通過(guo)(guo)空氣(qi)中(zhong)(zhong)的(de)水分子把硅片表面(mian)粘(zhan)著的(de)灰塵化(hua)學吸附在表面(mian)難以(yi)清除(chu)。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)高(gao),粘(zhan)附的(de)越(yue)難去掉，但當(dang)相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)靜電力的(de)作用(yong)使粒子也容易(yi)吸附于(yu)(yu)表面(mian)，同時(shi)大(da)量半導體(ti)器件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅片生(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。