潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以后(hou)(hou)還要(yao)(yao)列(lie)舉，但(dan)作為(wei)總(zong)的(de)(de)(de)(de)原(yuan)則看，由于加工精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)精(jing)細，所以對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動(dong)范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)(zai)大規模集成電路(lu)生產(chan)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)曝光(guang)(guang)工藝中(zhong)(zhong)，作為(wei)掩(yan)膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)(de)熱(re)膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引起了(le)0.24um線(xian)性膨(peng)脹(zhang)，所以必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因(yin)為(wei)人出(chu)汗(han)以后(hou)(hou)，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕(pa)鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這(zhe)種車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生的(de)(de)(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)超過55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上會(hui)結露，如果發(fa)生在(zai)(zai)精(jing)密裝置或(huo)電路(lu)中(zhong)(zhong)，就會(hui)引起各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易生銹。此外，濕度(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)(shi)將通過空氣(qi)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把(ba)硅片表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸(xi)附(fu)在(zai)(zai)表面難以清除(chu)。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)(shi)，又由于靜電力的(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容(rong)(rong)易吸(xi)附(fu)于表面，同(tong)時(shi)(shi)大量半導(dao)體器件容(rong)(rong)易發(fa)生擊穿(chuan)。對(dui)(dui)(dui)于硅片生產(chan)濕度(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。