潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求以(yi)后還(huan)要列舉，但作(zuo)(zuo)為總(zong)的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加(jia)工精度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波(bo)動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)要求越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小。例如在(zai)大(da)規(gui)模集成電(dian)路(lu)生產的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工藝(yi)(yi)中(zhong)，作(zuo)(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系(xi)數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要求越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起(qi)(qi)了0.24um線性膨(peng)脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)(shi)要求濕度(du)(du)(du)值一般(ban)較(jiao)低，因為人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產品將有(you)污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)車間(jian)(jian)，這種車間(jian)(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產生的(de)(de)(de)(de)問題(ti)更(geng)多。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻(que)水管壁上(shang)會結露，如果發生在(zai)精密裝置(zhi)或電(dian)路(lu)中(zhong)，就會引(yin)起(qi)(qi)各(ge)種事故。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易(yi)生銹。此外，濕度(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通過(guo)(guo)空(kong)氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分(fen)子把硅片(pian)表(biao)面粘著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表(biao)面難以(yi)清除。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)難去掉，但當(dang)相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)用使粒子也容易(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)表(biao)面，同時(shi)(shi)大(da)量半(ban)導體(ti)器件(jian)容易(yi)發生擊穿。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)生產濕度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。