潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)后還要列舉，但作為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)于加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精細，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)波(bo)動(dong)范圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)來越(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電路(lu)生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)光刻(ke)曝光工(gong)藝(yi)中，作為(wei)(wei)掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)來越(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引(yin)起(qi)了0.24um線(xian)性膨(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)恒溫，同時要求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)(wei)人出(chu)汗以(yi)后，對(dui)(dui)產(chan)品將有污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導體車間，這種車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時，冷卻水管壁上會結(jie)露，如(ru)果發生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝置或電路(lu)中，就(jiu)會引(yin)起(qi)各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太高時將通(tong)過空(kong)氣(qi)中的(de)(de)(de)(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片(pian)表面(mian)(mian)粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化(hua)學吸附在(zai)表面(mian)(mian)難以(yi)清除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)高,粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但當相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低于30%時，又由(you)于靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容易吸附于表面(mian)(mian)，同時大(da)量半(ban)導體器件容易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于硅(gui)片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍(wei)為(wei)(wei)35—45%。