潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工藝對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加工精(jing)(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精(jing)(jing)細，所以(yi)對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。例如(ru)在大規(gui)模(mo)集成電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)(chan)的(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板(ban)材料的(de)(de)玻(bo)璃與(yu)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線(xian)性膨脹，所以(yi)必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)產(chan)(chan)品將有污染，特別是怕鈉的(de)(de)半(ban)導體車(che)間(jian)，這種(zhong)車(che)間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)(guo)高產(chan)(chan)生(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)(guo)55%時(shi)(shi)(shi)，冷(leng)卻水管壁上(shang)會(hui)結露，如(ru)果發生(sheng)在精(jing)(jing)密裝置或(huo)電(dian)路(lu)中(zhong)，就(jiu)會(hui)引起各種(zhong)事故(gu)。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太(tai)高時(shi)(shi)(shi)將通過(guo)(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)水分子(zi)把硅(gui)(gui)片(pian)(pian)表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)灰塵化學吸附在表(biao)面(mian)難(nan)以(yi)清除。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難(nan)去掉，但當(dang)相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電(dian)力(li)的(de)(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容易吸附于(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)(shi)大量半(ban)導體器件(jian)容易發生(sheng)擊(ji)穿。對(dui)于(yu)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)生(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。