潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對溫度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要求以(yi)后還(huan)要列(lie)舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)(de)原則看(kan)，由于加工精度(du)(du)(du)越來越精細，所以(yi)對溫度(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要求越來越小。例如在大規(gui)模集(ji)成電(dian)路(lu)生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝中(zhong)，作為掩(yan)膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與硅片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱(re)膨(peng)脹系數(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)差(cha)要求越來越小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片(pian)(pian)，溫度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就(jiu)引起(qi)(qi)了0.24um線(xian)性膨(peng)脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫，同(tong)時要求濕(shi)度(du)(du)(du)值一般較(jiao)低，因為人出汗(han)以(yi)后，對產品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半導(dao)體(ti)車間，這種車間溫度(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問(wen)題(ti)更多(duo)。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時，冷卻水管壁上(shang)會(hui)結(jie)露(lu)，如果發生(sheng)(sheng)在精密裝置或電(dian)路(lu)中(zhong)，就(jiu)會(hui)引起(qi)(qi)各(ge)種事故。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)在50%時易生(sheng)(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)度(du)(du)(du)太(tai)高時將通(tong)過(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水分子把硅片(pian)(pian)表(biao)面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附在表(biao)面難(nan)以(yi)清(qing)除。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)越高,粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)(de)越難(nan)去(qu)掉，但(dan)當相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)低于30%時，又由于靜電(dian)力(li)的(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容(rong)(rong)易吸附于表(biao)面，同(tong)時大量(liang)半導(dao)體(ti)器件容(rong)(rong)易發生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對于硅片(pian)(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。