潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)溫度(du)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后還(huan)要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)(wei)總(zong)的(de)原則看(kan)，由(you)于(yu)加工精度(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)溫度(du)波動范圍的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如在大(da)規模集成電(dian)路(lu)生產的(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)(wei)掩膜板材料(liao)的(de)玻(bo)璃與硅片(pian)的(de)熱膨脹系數(shu)的(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)硅片(pian)，溫度(du)上(shang)升1度(du)，就引起了0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)的(de)恒溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)(shi)度(du)值一般較低，因為(wei)(wei)人出(chu)汗以(yi)后，對(dui)產品將有(you)污染，特別是怕(pa)鈉(na)的(de)半導(dao)體(ti)車(che)間，這種車(che)間溫度(du)不宜超(chao)(chao)過25度(du)，濕(shi)(shi)度(du)過高產生的(de)問(wen)題更(geng)多。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)度(du)超(chao)(chao)過55%時(shi)(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會結露，如果發生在精密裝(zhuang)置(zhi)或電(dian)路(lu)中(zhong)，就會引起各(ge)種事故。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)度(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易(yi)生銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)太高時(shi)(shi)(shi)將通過空氣中(zhong)的(de)水(shui)分(fen)子(zi)把硅片(pian)表(biao)面(mian)粘著(zhu)的(de)灰塵化(hua)學(xue)吸附在表(biao)面(mian)難以(yi)清(qing)除。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)度(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)高,粘附的(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)度(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電(dian)力的(de)作(zuo)用(yong)使(shi)粒子(zi)也容(rong)易(yi)吸附于(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體(ti)器件容(rong)易(yi)發生擊穿。對(dui)于(yu)硅片(pian)生產濕(shi)(shi)度(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。