潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以后(hou)還要列舉，但作為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)(de)原(yuan)則看(kan)，由(you)于(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)精細，所以對(dui)(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)波動(dong)范(fan)(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小(xiao)(xiao)。例如在(zai)(zai)(zai)大規(gui)模集成電路(lu)生產的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)(zhong)，作為(wei)(wei)掩(yan)膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小(xiao)(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)(pian)，溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就引(yin)(yin)起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)(wen)，同時要求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)值(zhi)一般(ban)較低(di)，因為(wei)(wei)人出汗以后(hou)，對(dui)(dui)產品將(jiang)有污染，特別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)(de)半導體車(che)間，這種(zhong)車(che)間溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)過高(gao)產生的(de)(de)(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)(chao)過55%時，冷(leng)卻(que)水管壁(bi)上會結露，如果發(fa)生在(zai)(zai)(zai)精密裝置或電路(lu)中(zhong)(zhong)，就會引(yin)(yin)起各種(zhong)事(shi)故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)(zai)50%時易(yi)(yi)生銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高(gao)時將(jiang)通(tong)過空氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片(pian)(pian)表(biao)面粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵(chen)化(hua)學吸附(fu)在(zai)(zai)(zai)表(biao)面難以清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時，又由(you)于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容易(yi)(yi)吸附(fu)于(yu)表(biao)面，同時大量半導體器件(jian)容易(yi)(yi)發(fa)生擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)(pian)生產濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)范(fan)(fan)圍(wei)為(wei)(wei)35—45%。