潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)溫度(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)列舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加(jia)工精(jing)度(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)對(dui)溫度(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集(ji)成電路生產(chan)的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝中，作為掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)(gui)(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)(gui)(gui)片(pian)，溫度(du)上(shang)升1度(du)，就引起了0.24um線(xian)性(xing)膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同(tong)時(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)值一般較(jiao)低(di)，因(yin)為人出汗以(yi)后，對(dui)產(chan)品將(jiang)有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體(ti)車間(jian)，這種(zhong)(zhong)車間(jian)溫度(du)不(bu)宜(yi)超過25度(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)過高(gao)產(chan)生的(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)超過55%時(shi)，冷卻水管壁(bi)上(shang)會(hui)結(jie)露，如果發生在(zai)精(jing)密裝置或電路中，就會(hui)引起各種(zhong)(zhong)事(shi)故。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)在(zai)50%時(shi)易生銹。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)太高(gao)時(shi)將(jiang)通過空氣中的(de)(de)(de)(de)水分子把硅(gui)(gui)(gui)片(pian)表(biao)面粘著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表(biao)面難以(yi)清除。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)越(yue)(yue)(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)低(di)于(yu)30%時(shi)，又由(you)于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容易吸附(fu)于(yu)表(biao)面，同(tong)時(shi)大量半(ban)導(dao)體(ti)器件容易發生擊穿。對(dui)于(yu)硅(gui)(gui)(gui)片(pian)生產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)范圍(wei)為35—45%。