潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以后還要(yao)列舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)則(ze)看(kan)，由于(yu)加工精度(du)(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所以對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波(bo)動范圍(wei)(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如(ru)(ru)在(zai)大規模(mo)集成電(dian)路生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工藝中，作為掩膜板(ban)材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起(qi)了0.24um線性膨脹(zhang)，所以必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時要(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一(yi)般較低，因為人出汗以后，對產品(pin)將有污染(ran)，特(te)別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導體車(che)間(jian)，這種(zhong)車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過高(gao)(gao)產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題(ti)更多。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超過55%時，冷卻水(shui)管(guan)壁(bi)上(shang)會結(jie)露，如(ru)(ru)果發生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝置或電(dian)路中，就(jiu)會引起(qi)各種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)(gao)時將通過空氣中的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)分子(zi)把硅片(pian)表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在(zai)表(biao)面(mian)難以清除。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)高(gao)(gao),粘附的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當(dang)相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時，又由于(yu)靜(jing)電(dian)力(li)的(de)(de)(de)(de)(de)作用(yong)使(shi)粒子(zi)也容(rong)易吸附于(yu)表(biao)面(mian)，同(tong)時大量半(ban)導體器件容(rong)易發生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對于(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍(wei)(wei)為35—45%。