潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)的(de)(de)要求(qiu)(qiu)以(yi)(yi)后(hou)還要列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總(zong)的(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所以(yi)(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)波動范圍(wei)的(de)(de)要求(qiu)(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。例(li)如在(zai)大(da)規(gui)模集成(cheng)電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)藝(yi)中，作(zuo)為(wei)掩膜(mo)板材(cai)料的(de)(de)玻(bo)璃與(yu)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要求(qiu)(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。直(zhi)徑(jing)100 um的(de)(de)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)上升1度(du)(du)，就(jiu)引(yin)起(qi)了0.24um線性膨脹，所以(yi)(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)(shi)要求(qiu)(qiu)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)值一般較低，因(yin)為(wei)人出汗以(yi)(yi)后(hou)，對產(chan)品將有(you)污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)半導體車間，這種(zhong)車間溫(wen)(wen)度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)過(guo)高產(chan)生(sheng)的(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相對濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁(bi)上會(hui)結(jie)露，如果(guo)發生(sheng)在(zai)精密裝置或電路中，就(jiu)會(hui)引(yin)起(qi)各種(zhong)事故。相對濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)太高時(shi)(shi)將通(tong)過(guo)空氣中的(de)(de)水分(fen)子把硅(gui)(gui)片(pian)(pian)表面粘著的(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表面難以(yi)(yi)清除。相對濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)高,粘附的(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相對濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)(yu)靜電力的(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易吸附于(yu)(yu)表面，同時(shi)(shi)大(da)量半導體器(qi)件容易發生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。