潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后還要(yao)列(lie)舉，但作為(wei)總的(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)(yu)加工精(jing)(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)精(jing)(jing)細(xi)，所以(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動(dong)范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例(li)如在(zai)(zai)大規模(mo)集成(cheng)電(dian)路生產的(de)(de)(de)光刻(ke)曝光工藝中，作為(wei)掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱(re)膨脹系數的(de)(de)(de)差(cha)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因(yin)為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)產品將(jiang)有(you)污染(ran)，特別(bie)是怕鈉(na)的(de)(de)(de)半導(dao)體(ti)車間，這(zhe)種車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不(bu)宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產生的(de)(de)(de)問(wen)題(ti)更多。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻水管(guan)壁(bi)上會結露，如果發生在(zai)(zai)精(jing)(jing)密裝置(zhi)或電(dian)路中，就會引起各種事故。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)易(yi)生銹。此(ci)外，濕度(du)(du)(du)(du)太高時(shi)將(jiang)通(tong)過(guo)(guo)空氣中的(de)(de)(de)水分子(zi)把硅片(pian)表(biao)面粘(zhan)著的(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)(zai)表(biao)面難(nan)以(yi)清除。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)(de)(de)作用使粒子(zi)也容易(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)(yu)表(biao)面，同時(shi)大量半導(dao)體(ti)器件(jian)容易(yi)發生擊(ji)穿。對(dui)于(yu)(yu)(yu)硅片(pian)生產濕度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)35—45%。