潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)后(hou)還要(yao)列舉，但作為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)原(yuan)則看，由(you)于(yu)加工(gong)精(jing)(jing)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)精(jing)(jing)細(xi)，所以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)波(bo)動范圍的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電(dian)路生產(chan)的(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作為(wei)(wei)掩(yan)膜(mo)板材料(liao)的(de)(de)(de)玻(bo)璃與(yu)硅片的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了(le)0.24um線(xian)性(xing)膨脹，所以(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)(wei)人(ren)出汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產(chan)品將(jiang)有污(wu)染，特別是(shi)怕鈉(na)的(de)(de)(de)半導體車間，這(zhe)種車間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產(chan)生的(de)(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻(que)水管壁上會(hui)結露，如(ru)果發生在(zai)精(jing)(jing)密裝(zhuang)置(zhi)或電(dian)路中(zhong)，就會(hui)引(yin)起各種事(shi)故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生銹。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將(jiang)通過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)水分(fen)子(zi)把(ba)硅片表面粘著(zhu)的(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表面難以(yi)清除(chu)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)作用(yong)使粒(li)子(zi)也容易吸附于(yu)表面，同時(shi)(shi)大(da)量半導體器件容易發生擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅片生產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。