潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對溫度(du)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)(yi)(yi)后還(huan)要(yao)(yao)列舉(ju)，但作(zuo)為(wei)總的(de)原(yuan)則(ze)看，由(you)于(yu)(yu)加工(gong)精度(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以(yi)(yi)(yi)對溫度(du)波(bo)動范(fan)圍(wei)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集成電(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)光(guang)(guang)刻曝光(guang)(guang)工(gong)藝中，作(zuo)為(wei)掩膜(mo)板材料的(de)玻(bo)璃(li)與(yu)硅片(pian)(pian)的(de)熱膨(peng)脹系數的(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)硅片(pian)(pian)，溫度(du)上(shang)升(sheng)1度(du)，就引起了0.24um線性膨(peng)脹，所以(yi)(yi)(yi)必須有(you)±0.1度(du)的(de)恒溫，同(tong)時要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)值(zhi)一(yi)般(ban)較低，因為(wei)人出(chu)汗(han)以(yi)(yi)(yi)后，對產(chan)品將有(you)污(wu)染，特別是怕鈉的(de)半導體車間(jian)，這種車間(jian)溫度(du)不宜超過25度(du)，濕度(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)問題更多。相(xiang)(xiang)對濕度(du)超過55%時，冷卻水管壁上(shang)會結(jie)露，如果發生(sheng)在(zai)精密裝置或電(dian)路中，就會引起各種事故(gu)。相(xiang)(xiang)對濕度(du)在(zai)50%時易生(sheng)銹。此外，濕度(du)太(tai)高時將通過空氣中的(de)水分子把硅片(pian)(pian)表面(mian)粘著的(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在(zai)表面(mian)難(nan)以(yi)(yi)(yi)清除。相(xiang)(xiang)對濕度(du)越(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)(xiang)對濕度(du)低于(yu)(yu)30%時，又由(you)于(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)作(zuo)用使粒子也容易吸(xi)附(fu)于(yu)(yu)表面(mian)，同(tong)時大量半導體器件容易發生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅片(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕度(du)范(fan)圍(wei)為(wei)35—45%。