潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后(hou)還(huan)要(yao)列(lie)舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)原(yuan)則(ze)看，由于(yu)(yu)(yu)(yu)加工(gong)(gong)精(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)對溫(wen)度(du)(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。例如在大(da)規模集成電路(lu)生(sheng)產的(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜(mo)板材料的(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨脹，所(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時要(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)度(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出汗以(yi)后(hou)，對產品將有污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這(zhe)種車間溫(wen)度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)高產生(sheng)的(de)(de)(de)問題更多(duo)。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時，冷(leng)卻水管壁上會結露(lu)，如果(guo)發(fa)生(sheng)在精(jing)密(mi)裝置或電路(lu)中(zhong)，就會引起(qi)各種事故。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)在50%時易(yi)生(sheng)銹(xiu)。此(ci)外，濕(shi)度(du)(du)太高時將通過(guo)空(kong)氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在表面難以(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)低于(yu)(yu)(yu)(yu)30%時，又由于(yu)(yu)(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容(rong)(rong)易(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)(yu)(yu)表面，同時大(da)量半導(dao)體器件(jian)容(rong)(rong)易(yi)發(fa)生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)(yu)(yu)硅(gui)片生(sheng)產濕(shi)度(du)(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。